Блоги-хуаси джули

Главная страница

Товары для дома

Silicon Nitride (Si3N4) Ceramic

Alumina Ceramic

Zirconia Ceramic

Silicon Carbide (SiC) Ceramic

Применение программного обеспечения

New Energy Vehicles

High-precision Machine

Semiconductor Vacuum Pump

Wind Power

Aerospace Technologies

X-ray CT

Новости и события

Company News

Exhibition News

Faq

Blogs

Компания-производитель

Company Profile

Our History

Certificates & Honors

контакты

Главная страница/Новости и события/Статьи в блогах

Новости и события

Отдел новостей

Все самое важное и интересное о компании Huaci. Ознакомьтесь с новыми продуктами, разработками и основными достижениями компании.

Новости компании

Новости выставки

Часто задаваемые вопросы

Статьи в блогах

Повышение надежности инструмента CMP с шариками силиконового нитрида (Si3N4)

Химическая механическая планаризация (кс/сс) является краеугольным камнем в производстве полупроводниковых ваферов, обеспечивая ультраплоские поверхности для высокоплотных цепей. Эффективность оборудования кс/сс в значительной степени зависит от подшипников вращающихся носителей и подшипников, где в настоящее время широко применяются силиконовые нитриды (Si3N4).

Роль шариков силиконового нитрида (Si3N4) в плазменном Etching оборудовании

Плазменная резьба используется для точного удаления материала из ваферов, формируя транзисторные функции с точностью нанометра. Подшипники в плазменном etching оборудовании должны выдерживать высокоскоростное вращение, тепловые колебания и химическое воздействие. Шары силиконового нитрида (Si3N4) широко используются в этих высокопроизводительных приложениях.

Шары нитрида кремния (Si3N4) в оборудовании химической механической планировки (кс/сс)

Химическая механическая планаризация (кс/сс) является важнейшим шагом в производстве полупроводников, обеспечивая плоскостность и однородность поверхности ваферов. Подшипники в системах кс/сс должны работать в условиях высокоскоростного вращения с минимальным уровнем загрязнения. Шары Silicon Nitride (Si3N4) являются идеальным выбором для этих требовательных сред.

Силиконовый нитрид (Si3N4) шары для точности литографического оборудования

Литографические системы играют центральную роль в производстве полупроводников, обеспечивая передачу сложных схем на вафли. В этих инструментах важны точность движения и стабильность, а шары силиконового нитрида (Si3N4) играют ключевую роль в высокоскоростных подшипниках, используемых в сценических и линейных системах движения.

Повышение точности обработки ваферов с шариками силиконового нитрида (Si3N4)

Системы обработки ваферов требуют исключительной точности, чтобы избежать повреждения во время процессов передачи. Роботы и системы линейного движения зависят от высокопроизводительных подшипников для поддержания точности позиционирования. Шары силиконовой нитрид (Si3N4) все чаще используются для повышения надежности механизмов обработки ваферов.

Силиконовый нитрид (Si3N4) шары в вакуумных насосах для производства полупроводников

Вакуумная технология имеет основополагающее значение для производства полупроводников. От осадительных камер до систем гравюры решающее значение для обеспечения последовательности процессов имеет поддержание стабильных вакуумных условий. В этих системах шары силиконового нитрида (Si3N4) широко используются в гибридных керамических подшипниках для повышения производительности вакуумного насоса.

Предназначен для исследования и разработки и производства новых керамических материалов на основе нитрида кремния

Ссылки по ссылке

Товары для дома Применение программного обеспечения Новости и события Компания-производитель контакты

Товары для дома

Нитрид кремния (Si3N4) керамический Глинозема керамическая Циркония керамическая Карбид кремния (SiC) керамический

Свяжитесь с нами

liweiqi@hc-sin.com

+86 180 5010 1292

No. 451-1, Shixing Road, Houxi, Jimei District, Xiamen, Fujian, China

Copyright © 2024 Huaci Juli New Materials Co., Ltd.

Дизайн от Bontop